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您的位置：網(wǎng)站首頁(yè) > 新聞資訊 > Magnescale原SONY工業(yè)測(cè)量產(chǎn)品變更通知 擁有先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備和不斷發(fā)展的機(jī)床精度的規(guī)?？偸且罂蛻籼岣咝阅堋?我們根據(jù)半導(dǎo)體路線圖、市場(chǎng)趨勢(shì)和客戶需求，制定超精密規(guī)模路線圖，并致力于研發(fā)。 開(kāi)發(fā)新設(shè)備和皮科米分辨率刻度時(shí)，還必須開(kāi)發(fā)一個(gè)系統(tǒng)來(lái)評(píng)估它。
此外，設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)方法也必須不斷發(fā)展。 物理、化學(xué)、電氣、機(jī)械和軟件工程師正在共同努力，提高磁階和激光秤的性能。 我們的目標(biāo)是保持我們的基本技術(shù)能力，并成為一個(gè)團(tuán)隊(duì)，能夠快速、靈活地開(kāi)發(fā)和商業(yè)化滿足客戶需求的產(chǎn)品。 此外，我們開(kāi)發(fā)具有可靠可靠性的產(chǎn)品，不會(huì)辜負(fù)客戶的信任。
機(jī)械設(shè)計(jì)
使用模態(tài)分析進(jìn)行
變形模擬
LSI布線的信號(hào)延遲驗(yàn)證
新的磁體刻度源自磁性應(yīng)用技術(shù)，是磁刻度上分辨率為 0.005 μm 的精密測(cè)量刻度。 光學(xué)刻度檢測(cè)明暗晶格透射率的變化，而磁刻度通過(guò)磁頭檢測(cè)磁性介質(zhì)內(nèi)部記錄的磁晶格磁通量的變化。 為了在磁尺度上獲得高分辨率，良好的磁性介質(zhì)和低應(yīng)變頭至關(guān)重要。
在規(guī)模方面，我們開(kāi)發(fā)了高密度磁性介質(zhì)，具有耐環(huán)境性，可在各種環(huán)境下使用，包括機(jī)床和工業(yè)機(jī)械。 磁頭使用 HDD 中進(jìn)化的磁阻效應(yīng)元件，通過(guò)*的模式設(shè)計(jì)將磁信號(hào)輸出為高靈敏度、極低失真的信號(hào)。 此外，在磁刻度上成功實(shí)現(xiàn)了M碼磁信號(hào)檢測(cè)的化。 頭部的信號(hào)通過(guò)專有信號(hào)校正電路消除影響精度的 D C 信號(hào)分量以及正弦和余弦信號(hào)之間的相位差和振幅不平衡，并與 M 代碼一起轉(zhuǎn)換為高分辨率、高精度的位置。
新的磁階適用于各種環(huán)境（如冷凝和油）的機(jī)床，這是光學(xué)讀取明暗晶格時(shí)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。 此外，磁垢是與鑄鐵具有相同線性膨脹系數(shù)的刻度，鑄鐵是機(jī)器的結(jié)構(gòu)。 因此，即使在發(fā)生溫度變化的環(huán)境中，也能在與機(jī)器相同的溫度特性下進(jìn)行拉伸，從而實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定、高精度的加工。
磁垢將進(jìn)一步追求高精度和耐環(huán)境性能。
磁刻度記錄圖像
長(zhǎng)精度測(cè)量設(shè)備
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